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半導体用洗浄液

半導体用洗浄液の商品categorieに、我々は中国からの専門メーカーであり、化学洗浄液に、ハイドロフルオロエーテル沸点洗浄剤のサプライヤー/工場、卸売高品質製品は、Hfe無毒無害洗浄液のR&Dと製造は、我々は完璧なサービスと技術サポートアフター。ご協力を楽しみにしています!

は中国 半導体用洗浄液 サプライヤー

洗浄は半導体製造中に行われます。半導体の洗浄は、半導体プロセス全体を通して行われます。シリコンウェハの製造から、チップの準備において表面の汚染物質を除去し、フォトレジストを除去し、ウェットエッチング、CVDなどを行ってから最終的な材料品質検査を行うために、研磨されたシリコンウェハを洗浄する必要がある。次のステップで不純物が除去され、製品の歩留まりが維持されるようにするために、すべてのステップを洗浄する必要があります。同時に、チッププロセスが縮小し続けるにつれて、必要とされる洗浄の数が増加している。統計によると、洗浄工程の数はチップ製造工程全体の3分の1を占め、チップ製造の重要な部分です。非常に低い表面張力と粘度、それは良好な洗練と濡れ洗浄効果で、よく分散して様々な隙間に広がることができます。

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